納米顆粒跟蹤分析儀和顆粒跟蹤分析儀之間的差異

　　納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于納米顆粒跟蹤分析（NTA）技術的物理性能測試儀器，通過追蹤納米顆粒的布朗運動和光散射特性，實現粒徑、濃度及Zeta電位等多參數測量。

　　該儀器核心光學系統包含激光散射視頻顯微鏡和高靈敏度CMOS傳感器，支持10-2000nm粒徑檢測范圍，并具備熒光檢測功能。其工作原理是通過激光束照射納米顆粒懸浮液，利用顯微鏡捕捉顆粒散射光形成的移動光點，相機以每秒約30幀的速度記錄顆粒布朗運動軌跡，專用軟件通過斯托克斯-愛因斯坦方程推算粒徑分布，精度可達4nm，同時提供顆粒濃度（10?-10?個/mL精度）和Zeta電位（±200mV范圍）測量。

　　納米顆粒跟蹤分析儀和顆粒跟蹤分析儀均基于顆粒布朗運動原理實現粒度分析，但二者在測量范圍、技術細節等方面存在顯著差異，核心區別在于對“納米級”顆粒的特異性檢測能力。以下從多個維度詳細對比：

　　一、測量粒徑范圍的核心差異

　　顆粒跟蹤分析儀（PTA）：

　　主要針對微米級及以上顆粒（通常測量范圍為0.5μm-100μm），適用于較大顆粒的跟蹤和分析。其光學系統（如普通光學顯微鏡）的分辨率有限，難以捕捉納米級顆粒的布朗運動軌跡。

　　納米顆粒跟蹤分析儀（NTA）：

　　專門針對納米級顆粒（典型測量范圍為10nm-1μm），通過優化光學設計（如采用激光光源、高靈敏度相機）和算法，可識別并跟蹤納米顆粒的快速布朗運動（納米顆粒因尺寸小，布朗運動更劇烈）。

　　二、技術原理的細節差異

　　兩者均基于斯托克斯-愛因斯坦方程（通過顆粒擴散系數計算粒徑），但實現方式不同：

　　光學系統：

　　PTA：多采用普通白光光源和常規顯微鏡，相機幀率較低（通常＜30fps），適用于運動速度較慢的大顆粒。

　　NTA：采用激光光源（如488nm藍色激光）聚焦于樣品池，使納米顆粒產生散射光；搭配高幀率CCD/CMOS相機（通常＞30fps，甚至達100fps以上），可捕捉納米顆粒的快速位移。

　　跟蹤算法：

　　PTA：算法相對簡單，主要通過顆粒的位移距離和時間計算擴散系數，對顆粒濃度要求較低（避免顆粒重疊）。

　　NTA：需處理納米顆粒的高動態運動，算法更復雜（如采用粒子追蹤velocimetry技術），同時可通過散射光強度估算顆粒濃度（需校準），但對樣品濃度敏感（過濃會導致顆粒軌跡重疊，影響分析）。

　　三、核心區別總結

　　粒徑敏感性：NTA專為納米級（10nm-1μm）設計，PTA聚焦微米級（0.5μm以上）。

　　光學與算法：NTA依賴激光+高幀率相機+復雜跟蹤算法，PTA采用常規光學系統和簡單算法。

　　功能擴展：NTA通常可同時提供粒徑分布和顆粒濃度數據，PTA更側重粒徑分析，濃度測量精度較低。