納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于納米顆粒跟蹤分析（NTA）技術的高精度物理性能測試儀器，主要用于測量納米顆粒的粒徑、濃度及Zeta電位等多參數信息。該儀器通過激光照射納米顆粒懸浮液，利用高分辨率顯微鏡捕捉顆粒的布朗運動軌跡，并結合專用軟件分析粒徑分布。其核心在于通過追蹤單個顆粒的隨機運動，結合斯托克斯-愛因斯坦方程，推算出顆粒的流體力學半徑，實現高精度測量。部分儀器還集成了微電泳技術，可同步測定Zeta電位，反映顆粒表面電荷特性。

　　為確保測量結果的準確性和可靠性，納米顆粒跟蹤分析儀使用前的準備工作至關重要。以下是關鍵步驟：

　　1、樣品準備

　　分散介質選擇：

　　根據樣品性質選擇合適的分散介質（如超純水、生理鹽水、乙醇等），確保介質與樣品相容且無反應。

　　對于生物樣品（如細胞外囊泡、蛋白質復合物），需使用等滲緩沖液（如PBS）維持滲透壓和pH穩定性。

　　樣品稀釋與過濾：

　　將樣品稀釋至最佳濃度范圍（通常10??~10??g/mL），避免濃度過高導致顆粒重疊或多重散射。

　　使用濾膜（如0.22μm或更小孔徑）過濾樣品，去除雜質、聚集體或大顆粒干擾。

　　超聲/攪拌處理：

　　通過超聲（10-30分鐘）或磁力攪拌均勻分散樣品，避免顆粒團聚。注意控制超聲功率，防止樣品降解或氣泡引入。

　　2、儀器檢查與校準

　　儀器預熱與自檢：

　　提前開機預熱（約30分鐘），確保激光光源、檢測器和流體系統穩定。

　　執行儀器自檢程序，檢查光路、流速和軟件連接是否正常。

　　校準操作：

　　光學校準：使用標準樣品（如已知粒徑的聚苯乙烯納米球）驗證儀器精度，調整激光強度和檢測閾值。

　　流速校準：若儀器配備流動池，需調節流速（通常0.5-5 mL/min）并檢查鞘液（如超純水）供應是否穩定。

　　折射率設置：輸入樣品和分散介質的折射率（需提前通過文獻或阿貝折光儀測定）。

　　3、測量參數設置

　　模式選擇：

　　根據需求選擇測量模式：動態光散射（DLS）用于粒徑分布，納米顆粒跟蹤分析（NTA）用于單個顆粒可視化和濃度分析。

　　參數配置：

　　設置溫度（通常25℃）和測量時間（如DLS需足夠時間采集相關函數）。

　　調整相機曝光時間和幀率，確保顆粒運動軌跡清晰可追蹤。

　　設定分析閾值（如信噪比>10），排除噪聲干擾。

　　4、環境與耗材準備

　　環境控制：

　　確保實驗室溫度穩定（±1℃），避免氣流或振動干擾測量。

　　清潔操作臺面，防止灰塵污染樣品或儀器。

　　耗材檢查：

　　使用無塵紙或專用工具清潔比色皿/流動池，避免指紋或劃痕影響光路。

　　更換新鮮鞘液（如超純水），確保流動系統潔凈。

　　5、預實驗驗證

　　空白對照：

　　測量分散介質的背景信號，確認無雜散光或氣泡干擾。

　　樣品預測試：

　　注入少量樣品進行預測試，觀察粒徑分布和濃度是否合理。若結果異常（如粒徑過大或過小），需重新處理樣品或調整參數。

　　6、數據管理與記錄

　　信息錄入：

　　輸入樣品名稱、濃度、批次號等基本信息，便于數據追溯。

　　方法保存：

　　保存校準參數和測量條件（如流速、溫度、折射率），建立標準化操作流程（SOP）。